沿革

事業目的

半導体材料、太陽電池材料、半導体製造装置用部品及び太陽電池セルの販売、並びに輸出入 情報ネットワークによる半導体材料及び半導体製造に関連する新製品の市場開拓

沿革

  1996年 1月 会社設立、資本金1,000万円
  1997年 10月 米国IMAT Inc.製、薄膜加工品販売開始
  1999年 4月 シリコンウエハー表面処理技術開発
  2000年 4月 シリコンウエハーリサイクル品販売開始
  2001年 9月 特許出願「太陽電池用シリコン基板の製造方法
  2003年 3月 財団法人 クリーン・ジャパン・センター会長賞受賞
  2005年 3月 九州出張所開設
  2006年 3月 特許取得「太陽電池用シリコン基板の製造方法」
  2007年 3月 太陽電池セル販売開始
  2008年 7月 九州営業所開設
  2012年 10月 中期3ヶ年計画を策定
  2015年 3月 特許出願「表面にDLC膜コーティングしたモスアイ構造を有する
透明基板及びその製造方法」
  2015年 8月 ベトナム ホーチミン駐在員事務所開設